腐植酸文献

合成腐殖酸氧化还原能力与光学性质探究

作者:杨浈;姜杰
单位:北京林业大学环境科学与工程学院
文献来源:环境化学;   时间:2015-07-09

摘要: 本文以合成商业腐殖酸aldrich humic acids(aHA)与国药化学试剂腐殖酸(TJHA)为研究对象,与铁氰化钾反应测定不同浓度aHA与TJHA还原前后氧化还原能力.研究发现,原态和还原态的HA均能向铁氰化钾传递电子,还原后两种HA的氧化还原能力均大于其原态的氧化还原能力.原态和还原态TJHA的单位碳电子转移数(原态1.49 meq·g C-1;还原态20.95 meq·g C-1)均大于aHA(原态0.52 meq·g C-1;还原态1.75 meq·g C-1).同时随着HA浓度的增加,两种HA的原态与还原态单位碳电子转移数均逐渐降低(aHA:0.91-0.52 meq·g C-1;TJHA:13.57-1.49 meq·g C-1),而aHA单位体积电子转移数目逐渐增大(0.002-0.072 meq·L-1),TJHA单位体积电子转移能力无明显变化.这是由于在HA与铁氰化钾电子转移体系中,氧化还原能力的高低与腐殖酸中氧化还原官能团数量和分布有关,与HA粒径大小,分子质量也有关系.进一步通过E465,E4/E6值表明两种HA E465值与浓度呈明显正线性关系,E4/E6值与浓度呈对数增加趋势.三维荧光分析发现,HA还原后,激发/发射(Ex/Em)峰出现蓝移,相对荧光强度降低,说明HA还原的过程中有π-π*的断裂.进一步对HA荧光测定发现TJHA中具有更多数量的氧化还原官能团而aHA中氧化还原官能团种类相对丰富.

关键词: 合成腐殖酸;氧化还原能力;光学性质;三维荧光.