摘要: 采用腐殖质组成修改法和Pallo修改法相结合的方法对下拉秀剖面的胡敏素(HM)进行了分组研究，把铁结合胡敏素(HMi)、黏粒结合胡敏素(HMc)和不溶性胡敏素(HMr)定义为胡敏素组成，同时把HMi/HMc和(HMi+HMc)/HM作为胡敏素的表征指标，研究了不同层位的胡敏素组成。结果表明：不同层位胡敏素组分含量、HMi/HMc、(HMi+HMc)/HM、E4/E6、ΔlgK各不相同；多数层位HMr的含量高，HMr的最高值和最低值分别出现在剖面的上下两端；(HMi+HMc)/HM在(0.20±0.05)～(0.60±0.03)的范围内波动，多数层位可溶性胡敏素组分低于不溶性组分；HMi/HMc在(5.42±0.34～0.46±0.03)的范围内波动，且幅度大，有5个层位＞1；除O层外，剖面各层位的E4/E6总是表现为HMc＞HMi，但ΔlgK的变化情形较为复杂，并不总是表现为HMc＞HMi；现代生草层HMi、HMc的结构较其他层位简单。
关键词: 三江源；沉积剖面；胡敏素组成；光学性质
